English
金屬材（cái）料在蝕刻機裏的浸（jìn）蝕全過程，關鍵（jiàn）在於在金屬（shǔ）零件表層產生晶體的分解功效，次之在位錯上都產生分解功能，一般來講，位錯要以有（yǒu）別於晶體的分（fèn）解（jiě）速率產生融解功效的。
在（zài）大部分金屬材料和鋁合金得多分子結構中，每個結晶幾（jǐ）乎（hū）都能采用（yòng）分子晶格常數的所有趨向。而晶體的差異趨向、晶體密度（dù）的尺寸（cùn）及殘渣都是（shì）會和四周的孕媽金屬材料產生外部經濟或超微觀原電池反應。因此，針對金屬（shǔ）材料在蝕刻液中而言，一方麵這種原電池反應的出現，使金屬表層存在電勢差（chà），電位差正的地區獲得暫時性的維護，電位差負的區域在腐蝕（shí）機（jī）裏被優先選擇刻蝕。另一方麵在零件（jiàn）表層（céng）具備轉變著分子間隔，並且分（fèn）子間隔（gé）比較（jiào）寬的區域融（róng）解速率快速，一直到表（biǎo）明出不（bú）平坦的表層（céng）才（cái）行。隨（suí）後，融解功效會以似乎是相對穩定的速率鑽削密切堆（duī）積原子層，表層的幾（jǐ）何結構也隨（suí）之晶體的分解而再次不斷轉變。位錯裏的（de）刻（kè）蝕也將進（jìn）一步危害零件表層（céng）。在位錯上晶格常數的崎變和聚集的（de）雜物，經常造成更為快速地刻（kè）蝕功效，進（jìn）而可能會讓全部晶體遭受（shòu）凹（āo）痕狀刻蝕。晶粒尺寸越低，刻蝕後外表粗糙度越小，這還可以從具體生產過程中獲得確認。在生產過程中通常都是原材料越勻稱高密（mì）度其表層越光滑。
產品（pǐn）工件在蝕刻機浸蝕環節中，怎樣得到表層光滑的效果呢？根據鑫恒力研究表明，如果是要開（kāi）展紋路刻蝕，就要使這類外部經濟（jì）部分刻蝕狀況提升。例如（rú）操縱（zòng）適（shì）宜的酸值或酸堿度，並添加一些致力於（yú）更改刻蝕（shí）的行（háng）為第二化學物（wù）質，使被刻蝕表麵展現出（chū）所需的不光滑化表層實際（jì）效果。要是在腐蝕機內進行有機化學鏤空雕花，同樣需要發揮（huī）特長（zhǎng），提高蝕（shí）刻液的蝕刻加工（gōng）水平，使刻（kè）蝕更趨向均勻化，以獲得表層光滑光潔效果。
